多个传感器间相互位置关系校准方法

创新无极限，仪表大发明者。今天为大家讲解一项国家发明者许可专利——多个传感器间互相方位关系校准方法。该专利由上海微电子装备有限公司申请人，并于2017年6月27日取得许可公告。

内容解释本发明牵涉到集成电路生产领域，尤其牵涉到一种多个传感器间互相方位关系校准方法。发明者背景投影扫描式(TFT)光刻机的目的是把掩模上图形明晰、正确地光学在涂光刻胶的基板上，随着基板尺寸的减小，掩模、基板的应力不会对套刻结果产生相当大的影响，因此必需在掩模或基板上布置更好的标记。

为了提升产率，现明确提出一种曝光装置，该装置还包括：灯光系统1，掩模2、掩模台3、基板对准系统4、物镜阵列5、曝光场6、基板7以及工件台8。该光刻机系统工作时，灯光系统1通过物镜阵列5将掩模2上的图像光学到基板7的每个曝光场6上，通过工件台8与掩模台3实时运动已完成扫瞄曝光动作。

掩模台3支撑掩模2运动、工件台8支撑基板7运动，工件台测量系统和掩模台测量系统分别测量工件台8和掩模台3的方位。为了已完成物镜阵列5的镜头拼凑，必须使用多个掩模对准传感器同时继续执行掩模对准的方案。然而，由于掩模对准传感器、基板对准传感器相对于工件台8或者整机框架不会再次发生热飘移，如果再行运用原本的传感器方位关系计算出来掩模2相对于工件台8、基板7相对于工件台8的方位关系不会引发套刻误差。

因此，如何对多个传感器间的方位关系展开校准，沦为本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。发明者内容本发明获取一种多个传感器间互相方位关系校准方法，以解决问题传感器间互相方位飘移问题，从而避免该飘移对套刻的影响。为解决问题上述技术问题，本发明获取一种多个传感器间互相方位关系校准方法，通过掩模对准传感器和基板对准传感器测量设置在工件台基准版上的基准标记，创建掩模对准传感器与基板对准传感器之间的方位关系。

图为掩模与基板方位关系的逻辑联系图明确还包括：步骤1：使用掩模对准传感器对工件台基准版上的基准标记展开方位测量；步骤2：通过该基准标记上的第一标记对掩模对准传感器展开方位标定；步骤3：通过该对准标记上的第二标记对基板对准传感器展开方位标定。作为替代性，标定还包括离线标定和在线标定。所述离线标定步骤还包括：使用干涉仪分别对每个掩模对准传感器和每个基板对准传感器展开方位标定，创建掩模对准传感器、基板对准传感器与干涉仪之间的关系；移动工件台，使用一个基板对准传感器依序对准工件台基准版上的基准标记，并标定每个基准标记相对于工件台的方位；使第一标记同时对准所有基板对准传感器，从而标定所有基板对准传感器的方位。

所述在线标定步骤还包括离轴基线改版和同轴基线改版。所述离轴基线改版还包括：将所有基板对准传感器同时对准第一标记，测出的工件台基准版的方位变化，并把在线测出的工件台基准版的方位变化补偿到所述基板对准传感器上。所述同轴基线改版还包括：移动掩模台和工件台到物镜阵列下，所有掩模对准传感器测量其各自对应的第二标记的像素值变化，进而改版所述基准标记的像素方位。两掩模对准传感器间距与两基板对准传感器间距完全相同。

所述掩模对准传感器和基板对准传感器的排序方向完全相同，皆与光刻机系统的扫瞄方向横向，可以测得基板内的高阶应力。所述第一标记和第二标记部分重合与现有技术比起，本发明通过掩模对准创建掩模与工件台的方位关系，再行创建基板与工件台的方位关系，从而可以间接创建掩模与基板的方位关系，可以有效地解决问题掩模、基板传感器间互相方位飘移问题，从而避免该飘移对套刻的影响。

本文来源：皇冠游戏官方-www.golftournamentsusa.com